fxp007 19 Jun 2026 in Public Martin Van Den Brink Martin Van Den Brink 是前 ASML 首席技术官,ASML 是光刻机领域的全球垄断者。他的加入直接指向半导体材料这条应用赛道——EUV 光刻对光刻胶、镜片材料、光掩模的要求极其苛刻,是当前最难突破的材料瓶颈之一。cusp.ai 有顶级半导体老兵坐镇,可能已经在看这个方向。 ASML 半导体材料 光刻 材料瓶颈 顾问战略