大多数人认为ASML的每一次技术突破都会立即带来商业成功，但作者暗示高NA EUV机器可能是第一个在商业上不明显的进步。这与人们对ASML持续创新的预期相悖，暗示技术进步并不总是自动转化为商业优势。

Martin Van Den Brink 是前 ASML 首席技术官，ASML 是光刻机领域的全球垄断者。他的加入直接指向半导体材料这条应用赛道——EUV 光刻对光刻胶、镜片材料、光掩模的要求极其苛刻，是当前最难突破的材料瓶颈之一。cusp.ai 有顶级半导体老兵坐镇，可能已经在看这个方向。